关于 EUV光刻 的快讯列表
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2026-02-11 19:31 |
ASML展示13纳米精度的尖端EUV光刻技术
据@StockMKTNewz报道，ASML展示其先进的极紫外（EUV）光刻系统，能够打印出仅13纳米大小的特征。这一突破巩固了ASML在半导体制造领域的领先地位，并可能推动高性能芯片的生产，同时提升投资者对公司股票的交易兴趣。 |